電子デバイス生産施設

■ HOYA　マスク事業部台湾ニューライン

製品：	フォトマスク
設計：	鹿島
所在地：	台湾竹南
構造・階数：	S造・2階建
竣工年：	2004年

HOYA　マスク事業部台湾ニューライン

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